光掩膜是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過曝光將圖形轉印到產品基板上。光掩膜主要由兩部分組成：基板和不透光材料。光掩膜廣泛應用于集成電路、平板顯示（包括 LCD、LED、OLED）、印刷電路板等領域，應用較為廣泛。

光掩膜基板在光刻工藝中的應用示例

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光掩膜產業鏈

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　　隨著手機、電腦、液晶電視等市場需求的增長，以及穿戴式產品、智能家居等新型市場的興起，全球 LCD 面板需求也快速增長。根據統計，全球 TFT-LCD 需求 2014 年已達到 1.53 億平方米，預計 2018 年將達到近 2 億平方米。

　　同時，在國家政策的扶持下，我國 TFT-LCD 行業快速發展，2016 年大陸面板廠商出貨量達到 0.77 億片，占據額全球的 30%的份額，全球第二。 根據數據顯示，2016 年我國光掩膜版市場規模為 59.5 億元，假設其材料成本占比為30% 并考慮整體市場規模的增長， 則我國光掩膜基板的市場規模 超過 20 億元。在合成石英玻璃材料制備方面，公司已具備生產 G8 代大尺寸、高精度 TFT-LCD光掩膜基板技術能力。在我國 TFT-LCD 全球全球份額持續增長，國產合成石英玻璃材料競爭優勢進一步提升的情況下，光掩膜基板業務有望快速成長，成為新的業績增長點。

全球 LCD 面板需求面積及增速

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我國光掩膜市場規模及增速

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