據(jù)統(tǒng)計：2016年我國光掩膜版國內(nèi)總產(chǎn)量為1.69萬平方米，年度消費量為7.98萬平方米，國內(nèi)光掩膜版凈進口量達到6.29萬平方米。

2011-2016年我國光掩膜版供需統(tǒng)計圖

資料來源：BSIC中經(jīng)先略數(shù)據(jù)中心

　　目前全球范圍內(nèi)光刻掩膜版主要以專業(yè)生產(chǎn)商為主。由于下游應(yīng)用領(lǐng)域廠商自建光刻掩膜版生產(chǎn)線的投入產(chǎn)出比很低，且光刻掩膜版行業(yè)具有一定的技術(shù)壁壘，所以光刻掩膜版都是由專業(yè)的生產(chǎn)商進行生產(chǎn)。

　　在光刻掩膜版領(lǐng)域，國內(nèi)廠商與國外先進技術(shù)存在一定差距。目前，光罩的核心技術(shù)主要掌握在日本的HOYA、SKE，韓國的LG Micron、PKL以及我國臺灣地區(qū)的AIPC等企業(yè)手中，由于其對于光掩膜版的關(guān)鍵技術(shù)與設(shè)備進行了較為嚴格的封鎖，所以導(dǎo)致國內(nèi)廠商在技術(shù)上與國外專業(yè)廠商相比存在一定的差距。

　　據(jù)統(tǒng)計：2015年我國光掩膜版需求市場規(guī)模為56.7億元，2016年國內(nèi)需求市場規(guī)模增長至59.5億元，規(guī)模較上年同期增長4.9%。

2011-2016年我國光掩膜版市場規(guī)模走勢圖

資料來源：BSIC中經(jīng)先略數(shù)據(jù)中心