中國產業發展研究網訊：在半導體制程中，曝光制程非常重要，因此作為其核心材料的光刻膠占較大的生產成本，在技術與產業方面的重要性也非常高。根據北京中經先略投資咨詢中心最新發布的《中國光刻膠市場現狀分析及前景預測報告》顯示：2011年用于韓國國內半導體產業的光刻膠量約為25萬~30萬加侖，產值約達3,000億韓元(約2.58億美元)的規模。

　　用于韓國半導體產業的光刻膠中，KrF(KrF Eximer Laser，248nm曝光)的市占率約達5成，而ArF Immersion(ArF EximerLaser，Wet制成，193nm曝光)與ArFDry(ArFEximerLaser，Dry制成，193nm曝光)的合計市占率約達25%;另外，高價位光刻膠ArFImmersion產品的年銷售額，約達1,000億韓元。

　　韓國的內存與半導體產業擁有全球領先的技術實力，因此光刻膠企業也非常重視韓國市場。供應韓國企業光刻膠的廠商有2家韓國廠商，包括東進化學、錦湖石油化工，另外有5家日本廠商，包括住友化學、TOK、信越、JSR、FFEM，以及收購羅門哈斯(Rohmand Haas)的陶氏化學等。