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預(yù)測:2010年十大潛力新興技術(shù)
2009/11/24 19:13:59 來源:中國產(chǎn)業(yè)發(fā)展研究網(wǎng) 【字體:大 中 小】【收藏本頁】【打印】【關(guān)閉】
核心提示:預(yù)測:2010年十大潛力新興技術(shù)雖然軟件看來也將在2010年扮演要角,不過以下選出的十大潛力新興技術(shù)主要是硬件方面的,且特別看重其在省電、降低二氧化碳排放量、精簡材料等方面的條件(這些條件也可說是推動那些技術(shù)的主要力量);至于那些已經(jīng)是主流話題、或是還需要長期發(fā)展的技術(shù)項目則未考慮在內(nèi)。
當然,這十項由編輯們選出的技術(shù)(排列順序并無特別規(guī)則),也許不是百分之百準確成為2010年的明星,但它們對整個產(chǎn)業(yè)的影響力還是值得關(guān)注;如果讀者們有其他的看法與預(yù)測,歡迎一起討論!
1. 對電子裝置的生物回饋(biofeedback)與思想控制
有不少企業(yè)或研究機構(gòu)都展示過如何利用裝置在頭盔或是耳機上的傳感器來擷取腦波,并用以控制計算機系統(tǒng)。這類技術(shù)主要應(yīng)用在醫(yī)療──讓重度身障人士能進行溝通或是控制環(huán)境──以及軍事領(lǐng)域,也越來越常用以做為消費性電子裝置與計算機游戲的控制接口。
聽起來也許有點像科幻小說,但藉由思想控制(thought-control)的人機接口已經(jīng)存在了,例如一家總部位于美國舊金山的公司Emotiv Systems,就正在推廣這種技術(shù)。
2. 印刷電子
能快速印刷出多個導(dǎo)體/絕緣體或半導(dǎo)體層以形成電路的技術(shù),可望催生比目前采用傳統(tǒng)制程生產(chǎn)之IC成本更低芯片。通常印刷半導(dǎo)體意味著使用性能與硅大不相同 的有機材料,甚至所生產(chǎn)之組件尺寸也能超越硅材料的極限。此外還有許多應(yīng)用獲益于低價、軟性基板的性能;例如RFID標簽,還有顯示器的主動矩陣背板 (active-matrix backplane)。
有一家美國廠商Kovio則是專精印刷式硅電子組件技術(shù),該公司自2001年成立以來就深耕印刷電子市場,并在2009年7月宣布獲得2,000萬美元資金,將把這筆錢用于將該公司的RF條形碼推向商業(yè)化量產(chǎn)。
3. 塑料內(nèi)存
塑膠內(nèi)存也可能適合以印刷制程來生產(chǎn),并像上面的印刷電子組件一樣,能比硅材料有更好的性能表現(xiàn)、成本也更低。挪威業(yè)者Thin Film Electronics就是這種技術(shù)的專家之一,該公司多年來致力將該技術(shù)商業(yè)化,并曾與大廠英特爾(Intel)合作過一段時間。
塑膠內(nèi)存是以具鐵電(ferroelectric)特性的聚合物Polythiophenes為基礎(chǔ),可重復(fù)讀寫、非揮發(fā)性;根據(jù)Thin Film Electronics介紹,其資料保存期限可超過十年,讀寫周期超過百萬次。在2009年9月,一家德國公司PolyIC還使用塑料內(nèi)存技術(shù),以聚乙 烯對苯二甲酸酯(Polyethylene Terephthalate,PET)做為基板,用滾動條是制程生產(chǎn)出20bit的塑料內(nèi)存。
4.無光罩微影
大多數(shù)人可能會問,超紫外光微影(extreme ultra violet lithography,EUV)究竟何時可取代浸潤式微影技術(shù)?但現(xiàn)在有匹大黑馬跳出來──即采用電子束(electron beam)技術(shù)為基礎(chǔ)的無光罩微影(Maskless lithography)。
荷蘭業(yè)者Mapper Lithography則是該技術(shù)的主要推手。2009年7月,Mapper提供了12吋晶圓用電子束微影平臺給法國的研究機構(gòu)CEA-Leti,讓晶圓代工大廠臺積電(TSMC)在該處進行相關(guān)制程研發(fā)。
5.并行處理技術(shù)
這種技術(shù)已經(jīng)以雙核心/四核心PC處理器的形式存在,還有嵌入式領(lǐng)域應(yīng)用的多核心異質(zhì)處理器(multicore heterogeneous processors);不過到目前為止,對于多核心處理器如何編程,以及如何充分發(fā)揮其運算能力與功率效益,業(yè)界還是少有形式上的理解。
自從多核心處理器問世以來,上述問題一直是困擾IT領(lǐng)域與整個產(chǎn)業(yè)界,而且我們距離解決方案還有好一段距離;目前OpenCL、Cuba等計劃都是試圖有所突破的行動,在2010年可望看到更多的進展。鄭重聲明:本文版權(quán)歸原作者所有,轉(zhuǎn)載文章僅為傳播更多信息之目的,如有侵權(quán)行為,請第一時間聯(lián)系我們修改或刪除,郵箱:cidr@chinaidr.com。